top of page
Boron%252520plasma_edited_edited_edited.jpg

薄膜プロセス工学研究室へようこそ

次世代薄膜形成技術による新材料の創出

薄膜プロセス工学研究室は、薄膜材料のさらなる高機能化と新素材の創出を目指し,プラズマを用いた薄膜・ナノ材料創製プロセスに関する研究を行っています.プラズマ中の「イオン」の動的特性を解明していく事で,材料の構成粒子を原子・分子レベルで精密に制御し,従来のプロセスでは形成が困難であった新規材料の創出とその産業化に向けて日々挑戦しています.

ホーム: ようこそ

研究トピックス

プラズマ分析に基づいたプロセス設計と新規薄膜材料・ナノ材料の創出を目指して

本研究室は2020年度に東京都立大学機械システム工学科先端材料加工学研究室(楊研究室)から独立し
新しく設立された研究室です。これまで推進してきた機械システムにおける表面設計・表面機能の創出に関する研究を出発点として、革新的な薄膜プロセス開発を軸に数多くの産業分野に貢献して参りました。詳細につきましては、以下をご覧ください。

IMG_5753.JPG

高密度パルスプラズマを用いた薄膜プロセス開発とその応用研究

2000年代初期に開発された大電力パルススパッタリング(通称HiPIMS)技術におけるプロセス制御の柔軟性を活かした高機能薄膜プロセスの開発を進めています。パルスプラズマにおける過渡的なプラズマ特性を把握する事で従来困難であったプラズマ中のイオン粒子の制御が実現されます。

bottom of page